IBM、2nmプロセスを用いた半導体チップの開発に成功
著者:小林行雄
IBMは5月6日(米国時間)、2nmのナノシート・テクノロジーによる半導体チップの開発に成功したことを発表した。
同社によると、同プロセスを使用すると、現在、量産適用されている中でも先端プロセスである7nmプロセス比でパフォーマンスは45%向上、消費電力は75%削減できることが予想されるとしており、例として携帯電話のバッテリー寿命が4倍に伸び、4日に1回、充電するだけで良くなるとしている。
また、同2nmプロセス技術は、IBMリサーチによるナノシート。
テクノロジーを使用することで、指の爪のサイズのチップに最大500億個のトランジスタを搭載することができるようになるとしており、より多くのトランジスタを搭載することができれば、さまざまなイノベーションを生み出す機能を追加することができるようになると同社では説明している。
なお、同社の製品としては、量産ベースではIBMリサーチの7nmプロセス技術に基づいて商品化されたIBM POWER 10ベースのIBM Power Systemsが2021年後半に登場する予定としている。
マイナビニュース 2021/05/07 15:36
https://news.mynavi.jp/article/20210507-1884956/
引用元: ・【半導体】IBM、2nmプロセスを用いた半導体チップの開発に成功 [すらいむ★]
だめっていうか昔やりすぎてアメリカにボコられたからやる気なくなっただけ
>>6
凹られたら何でも諦める
超ヘタレを証明しただけ
そりゃ、少子化だけど
いじめと自殺はは逆比例増加する
ワクチンは進んで打つ
PCR大好き 洗脳低能w
>>6
ボコる。というか、在庫だろ。
最先端作っても、ガラパゴス(笑)言われて、売れない。
TSMCが汚れ役になってるだけ。
いやいやintelが微細化に苦しんでいるのはCo層問題で
IBMは野上毅氏が開発したtCoSFBプロセスで7nmに成功したんだよ。
表には出てこないだけで日本人は活躍してるよ。
とはいえ、表舞台に出てこないからダメとも言える
製造装置は日本製
日本の半導体製造装置は、もはや最新微細化プロセスにはついていけてないよ。
でも肝心要の露光装置はオランダ製だろ?
lamじゃないの?
IBMと日本の企業では考え方が違うからね
IBMは新しい地平を切り開く
日本の企業はすでにある技術を工夫する程度
IBMは陳腐化した技術は部門ごと売っぱらっちまって次の新しい地平に挑む
京のSPARC64 VIIIfx 45nmくらいまでは国内で製造までやっていたんだがな。
三重とか宮城とからしいな。
そのすぐ後ごろから製造はTSMCになったらしい。
ちなみに富岳のA64FXは7nm。
台湾依存は自動車用半導体不足で問題になった。
なくなっても困らないんですよ、と
どんだけ韓国好きなんだよ
IBMは量産はしないからこの技術をSamsungやGFに売って開発費回収しなきゃだから
>>36
むかしIBMのSiGeプロセスでチップを作ったことがあるけど、
アレってIBM自身のファブだったような?
今は自前で作ってないのか・・・
サムスン工場と説明しているこれ(IBM)のニュースもあるが
IBMはFinFETになってからは自分では作ってないみたい
GF=AMD+CSM+IBM
6月までにできないだろうな。
まだできていなさそう。
日本は酸化ガリウム半導体など次世代パワー半導体で行くべし。
製造装置もな。
すでに原子の大きさに迫ろうとしてるじゃん
電子1個を制御できる時代まで続くのか
チップも量子とかいうわけのわかんない世界に行くのか
電気が流れると原子の位置が移動しちゃう問題があるんだよ。
また宇宙線などの影響で数個程度の原子では宇宙線で破壊され回路が維持できない
問題が大きい。
エレクトロマイグレーションという原理法則があり時間と共に回路が原子1個単位で
駄目になってゆくから昔は無視できるような誤差レベルのそれが、原子数個では
回路がゆるくなる数百個程度ではなく数個程度では破壊につながる。
なので組み立てる原子がそんな都合よく同じ状態であるなら細かくできても
1つの回路が死んでも機能しなくなるような類では致命傷になる。
将来製造ルールを上げるなら1万個とか10万個のCPUコアで徐々に劣化した
一部のCPUを停止させ性能ダウンするようなアナログのようなハードウエアが待っているだけ、
例えば、トンネル効果とかさ。
>>26
というかメタル層のピッチはいまでも40nmとかなのか^^;
「プロセスの最小寸法」っていう意味なら、ゲートのところの膜厚が大昔から原子数個分とか言ってたけどw
要は投資家をチョロまかすためとか他メーカーとの差異を謳うため「~nm(大嘘)」とか便宜的に言ってるんだな
>>73
悲しいことにIntelが次世代向けとして38nmを実現させたのが最新の細さだ。
トランジスタの超短距離なら細くてもなんとかなるがチップ全体に引き回す距離ともなれば
細くすれば導体の抵抗が一定ゆえに電流が流れないのは物理的限界は電気を使う
かぎり敗れない法則。(電圧駆動)
隣り合うトランジスタなら細い配線でもいいが、何千万もトランジスタをまたぐ距離ともなると
抵抗値は距離に比例して増えるのはオームの法則しっていれば計算できる類だろう。
2nmプロセスとは最小部品の(トランジスタのフィン部分)、トランジズタ全体でもなく
配線でもない。まあ精密に形状が作れる分だけ無駄がなくなるから有利だけどね。
プロセスの平面断面図の電子顕微鏡写真みれば配線プロセス部分が荒いのは
明白すぎる現実。
三星7nmはMMPが36nmっていわれてるし台積5nmも同程度なんじゃないかね
>>75
>悲しいことにIntelが次世代向けとして38nmを実現させたのが最新の細さだ。
>トランジスタの超短距離なら細くてもなんとかなるがチップ全体に引き回す距離ともなれば
>細くすれば導体の抵抗が一定ゆえに電流が流れないのは物理的限界は電気を使う
>かぎり敗れない法則。(電圧駆動)
集積度が上がった分でチップを複雑化するとかコア数を増やすならともかく、同じチップを
作ればチップサイズは小さくなり配線長も短くなるから、その分配線も細くできるのに、お
前は何を言ってるんだ?
3次元方向全て1/kにすると
配線長が1/kで断面積が1/k^2だから抵抗増える
高さを維持しようとするとアスペクト比が以上になって銅が入っていかないし
結合容量も増える
っていうようなことを言ってるんじゃね
そもそもバリアメタルとかの部分考えると作ることそのものが難しいと思うけど
>>111
デナードスケーリングでは配線抵抗は一定だし、アスペクト比は今は超深い溝が掘れるまで進歩してるし、配線長は短くなるから結合容量は増え
ないのに、何言ってるんだ?
それどころか、リーク対策でスレッショルド電圧はあまり下げられないから駆動電圧も下げられない分、抵抗は多少増えてもかまわんっていう
>>75
>隣り合うトランジスタなら細い配線でもいいが、何千万もトランジスタをまたぐ距離ともなると
だからそれはないが、いろいろと基本的な部分での勘違いは多いわな
まあ一番細かいのは確かなんだろうけど
あとはたくさん生産できるようにして 他社からの注文も引き受けてちょ
IBMは、2018年12月 半導体事業に関し、
Samsungと7nmでの半導体製造委託を含めた15年間の戦略的提携の拡大を発表。
Lenovoに売ったのはPC部門 半導体(の研究開発部門)は自前
https://eetimes.jp/ee/articles/2104/16/news030.html
3D NANDの構造な。柱にメモリができる
ノーベル賞受賞する従業員が多々でてくるのもうなずける。
こういう技術を維持できる会社というのは、世界広しといえどもIBMぐらいだろう。
でも
入社したころ、散々AIX3.1売ったぞ。
すでに他社なんだろうけどいま年収どのくらい?
2千は超えてる?
これ以下は電子よりも大きくなる
積層化するらしいな。
それなら、化石半導体でも最先端になるらしい。
IBM Unveils World's First 2 Nanometer Chip Technology
EUVはもう他のメーカーは参入できん。投資に金かかりすぎる
東京エレクトロン
レーザーテック
IBM unveils the world's 1st 2 nanometer chip which can quadruple cell phone battery life and more
Wie extrem ultraviolettes Licht die Chipproduktion revolutioniert
トランジスタのFinの製造ルール解像度であって
トンネル電界効果トランジスタがその解像度で機能するとか思っているのは
半導体わかっとらんのでは?
そして
昔から言われていた製造ルールとは配線ピッチであり、いまの配線ピッチは
解像度が7nmでも14nmであっても配線ルールは40nm以上の荒い解像度だってことだ。
配線は距離と電圧で決まるので、その長さを維持するなら細かくすることはできない
最近の低電圧で駆動がすすむそれは逆に配線ピッチは大きくしなければ電圧が
低い分だけ信号が届かない。
トランジスタのFinの数が増やせるだけでトランジスタが小さくできるわけじゃないってことだ。
配線ルールも荒いまま、配線層をコバルトとかルテニウムを使う話で努力しているが、最先端をいっている
インテルですら微妙で技術が加速していっせいに使うような状況には使いこなせていない。(配線革命はおきてない)
TSMCもその他もその手の金属に手をつけているが微妙なのはかわらない。
抵抗値が大きいがマンガンという話もあるが安定させる利点はあっても抵抗が大きい
消費電力25%か
単純計算なら、現在電力食い過ぎの弁当箱とか悪口を言われている
RTX3090は物凄いCUDAコア数だが350Wも電力を食う
これが90~100Wになったら一般向けのミニタワーPCで動かせるレベルになる
まあその頃に、CUDAコア数が30000以上(45000~50000くらい??)あって400Wの
電力を食うGPUが出来ている可能性もあるけどな
今のレートだとしたら仮想通貨マイニングだけで日本の中の下程度の生活ができるレベルか
すげぇ
>先端プロセスである7nmプロセス比でパフォーマンスは45%向上
7nm→2nmで45%向上て意味わかっていない馬鹿が多すぎる
古き時代の70nm→20nmで考えればわかる。450%向上ぐらい最低あるはずの集積度アップだ、
つまり同じ製造ルールを細かくする投資に対して得られるそれは恐ろしく減っている。
半導体プロセスは半分になれば集積できる半導体は2×2=4、つまり4倍になる。
だが、4倍にならないのが現実だ。2倍にすらなっていないとおもわれる。
そろそろ限界が近いと言う事
今文明は間もなく限界を迎え破滅する
パフォーマンスは集積度ではなくゲートあたりの遅延時間
集積度は三星7nm比でおおよそ3倍
でも今の回路って。ゲートで計算せずワイヤードロジックで
パターン分岐で答えがだせる最適化アルゴリズムが多いけど
ゲートでまわして計算したら計算遅すぎるよ。
基本計算しないアルゴリズムが数学上もっとも効率が良い計算方法だし。
部分的に結果だす答えを最初から用意するアルゴリズム
お前多分ゲートの意味を勘違いしてる
普通にFO4とかのディレイを言ってる
まあ今日日配線負荷(R含む)がかなり大きいと思うけど
太幅で配線したらチャネルつぶすだろ
配線なんて大抵最小幅で引くよ
紫外線で2nmなんて無理だし。
1層分の厚み?
正常動作する温度範囲が狭そう
TSMCのように量産できればな
これが一番難しいのよ
>>68
IBMの半導体は研究開発用のミニマルファブしか持ってない 特許ビジネスの量産ファブレス企業 ソースのウェーハが何インチか見れば分かる
量産ファブはとっくの昔にGFに売却済み もはやTSMCの競合ですらない
>>93
GFが米国防総省の委託受けて軍事用半導体のほとんど全てを作ってるね
GFの工場は元IBMの基幹工場だったそうだが
なぜか東亜に行くと「TSMCが軍用半導体の全てを作ってるから台湾ガー」
「サムスンが殆どの軍用半導体作ってるのはアメリカにとってリスクがあるだろ」と真顔でレスしてるのばかりだが
2nmやらの構造はゆっくり原子を積んでいくしかない(それ自体は正確にできるはず)と思うけど
どうやってんのかな?
次は何が来る?
TSMCはわざと車載半導体出し惜しみしてるらしいね
日本の自動車潰し
TSMCは台湾にあるって言うだけで、支那人が創業した支那系企業だからな。
ダメリカはこれからTSMC潰しに走る。
馬鹿な日本は国内に、我々の税金を使って誘致するようだが?
台湾成分が出資し、中国を最大の競争として発展してきた
>>90
20年以上ずっと製造技術やシステム設計、製造ノウハウの販売サービス。
歩留まり向上ソフトウエアを販売し、メンテナンスするサービスや、先端プロセス技術開発サービスビジネス、ファウンドリサービス。
TSMCがノード技術に費やす金額は、Intelともう1つのIDMであるSamsungを合わせた金額よりも多い
TSMCを牽引しているのはGlobalFoundriesとの競争ではなく、「Made in China 2025」(中国の国内製造競争力向上プログラム)との競争
TSMCの創業者であるチャンは、創業当初の87年頃、絶頂にあった日本のハイテク企業に出資を頼んだが、すべて断られた。
33年経った今、それらの日本企業は、TSMCの10分の1以下の価値しかない。潰れた会社もある。
IBMはずいぶん前にファブをGLOBALFOUNDRIESに売っぱらったのに、
なんで未だに半導体微細化の研究を続けてるんだろうな。
そのGLOBALFOUNDRIESはもう微細化へ投資するのをとうにあきらめちゃってるしw
https://xtech.nikkei.com/atcl/nxt/news/18/02468/「米グローバルファウンドリーズが半導体微細化レースから降板、7nm以降の開発を中止」
TSMCとかIntelに技術を売りつけるつもりか?
安定して歩留まりよく量産できるかはまた別の話だし、
設備が全く違うところで開発された微細化技術がそう簡単に他で利用可能とは思えんし、
特許収入を期待しても望み薄だと思うけどなぁ。
https://eetimes.jp/ee/spv/2104/14/news074_2.html
「スマホ用以外での投資不足が露呈した」、GFのCEO
Caulfield氏は、「製造業が再び脚光を浴びる時期が必ずやってくる。
私たちは物理的な世界に生きており、誰かがモノづくりをしなければならない。Intelも、半導体を製造できる数少ない企業だ。
Intelが(コンピュータ中心分野の)30%を押さえるとしたら、われわれは“残りの70%”をカバーしたい」と語った。
https://www.bloomberg.co.jp/news/articles/2021-01-15/QMTKNFDWRGG301
半導体の製造過程で感光剤を塗布して現像する同社の「コーターデベロッパー」の世界シェアは、
回路微細化のため極端紫外線(EUV)技術を用いる量産ライン向けでは100%だ
はやく市場の品薄解消されないかしら・・・
PCパーツが軒並み高騰してて困る
コロナが収まって需要が減りだしたら品薄も解消すると思う
でもあんまゲートとかポリシリコンのマイグレーション気にしてなかったよな
メタルがシュリンクしてなければ問題なさそう
ただメタルシュリンクしてないと配線チャネル相当キツイ
製造委託はSamsungの名前があがってるな。どうなることやら
具体的な処理の方法をドキュメント化して、ライセンスを販売する。そういう
まともな研究開発をしているよな。
勘違いして舐めた態度とる企業がいるからな
物理的サイズでいえば10nmを切るのは難しいといわれている。(今は最小部分で15nmくらい)